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J-GLOBAL ID：200902131352465185   Reference number：97A0733071

Electronic Structure and Electrical Conductivity of Amorphous Ni-Si Alloy Films.

非晶質Ni-Sn合金膜の電子構造と電気伝導率

Author (3)： ISOBE A (Nagoya Inst. Technol., Nagoya) ,  YAMADA M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya) ,  TANAKA K (Nagoya Inst. Technol., Nagoya)
Material： Journal of the Physical Society of Japan  (JPSJ)
Volume： 66  Issue： 7  Page： 2103-2109  Publication year： Jul. 1997 
JST Material Number： G0509A  ISSN： 0031-9015  CODEN： JUPSA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： nickel base alloy ,...
Semi thesaurus term： valence band

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JST classification (2)： Electronic conduction in amorphous and liquid metals  (BM03032V) ,  Metal-insulator transitions  (BM02110T)

Reference (24)：

• N. F. Mott and E. A. Davis: Electronic Processes in Non-crystalline Materials (Clarendon Press, Oxford, 1979).
• N. F. Mott: Metal-Insulator Transitions (Taylor & Francis, London, 1990).
• N. F. Mott: Conduction in Non-Crystalline Materials (Oxford Univ. Press, Oxford, 1987).
• P. A. Lee and T. V. Ramakrishnan: Rev. Mod. Phys. 57 (1985) 287.
• E. A. Davis, S. C. Bayliss, R. Asal and M. Manssor: J. Non-Cryst. Solids 114 (1989) 465.

Terms in the title (5)： 非晶質 ,  Ni ,  Sn合金 ,  電子構造 ,  電気伝導率