Art

J-GLOBAL ID：200902131716485136   Reference number：99A0577430

Boron carbide thin films deposited by tuned-substrate RF magnetron sputtering.

基板を調整した高周波マグネトロン・スパッタリング法による炭化ほう素薄膜の析出

Author (4)： PASCUAL E (Univ. Barcelona, Barcelona, ESP) ,  MARTINEZ E (Univ. Barcelona, Barcelona, ESP) ,  ESTEVE J (Univ. Barcelona, Barcelona, ESP) ,  LOUSA A (Univ. Barcelona, Barcelona, ESP)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 8  Issue： 2/5  Page： 402-405  Publication year： Mar. 1999 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： magnetron sputtering ,...
Semi thesaurus term： forbidden band

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JST classification (1)： Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Terms in the title (6)： 高周波 ,  マグネトロン ,  スパッタリング法 ,  炭化ほう素 ,  薄膜 ,  析出