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J-GLOBAL ID：200902132838961156   Reference number：93A0912179

Phase transformation mechanisms involved in excimer laser crystallization of amorphous silicon films.

非晶質シリコン膜のエキシマレーザ結晶化における相転移機構

Author (3)： IM J S (Columbia Univ., New York) ,  KIM H J (Columbia Univ., New York) ,  THOMPSON M O (Cornell Univ., New York)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 63  Issue： 14  Page： 1969-1971  Publication year： Oct. 04, 1993 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： amorphous semiconductor ,...
Semi thesaurus term： laser fluence

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Laser irradiation effects and damages  (BK16040S)

Terms in the title (5)： 非晶質 ,  シリコン膜 ,  エキシマレーザ ,  結晶化 ,  相転移