Art

J-GLOBAL ID：200902135404421152   Reference number：02A0067771

Materials Processing Using an Atmospheric Pressure, RF-Generated Plasma Source.

大気圧,RF-生成プラズマ源を用いた材料処理

Author (4)： SELWYN G S (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  HERRMANN H W (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  PARK J (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  HENINS I (Los Alamos National Lab., NM, USA)
Material： Contributions to Plasma Physics  (Beitraege aus der Plasmaphysik)
Volume： 41  Issue： 6  Page： 610-619  Publication year： 2001 
JST Material Number： H0173A  ISSN： 0863-1042  CODEN： BPPHAA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： gas discharge ,...
Semi thesaurus term： *plasma treatment ,...

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JST classification (1)： Applications of plasma  (BJ02110K)

Terms in the title (3)： 大気圧 ,  RF ,  プラズマ源