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J-GLOBAL ID：200902137729982986   Reference number：94A0800700

Transparent Photoacid Generator (ALS) for ArF Excimer Laser Lithography and Chemically Amplified Resist.

Author (6)： NAKANO K (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  MAEDA K (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  IWASA S (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  YANO J (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  OGURA Y (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  HASEGAWA E (NEC Corp., Kanagawa, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 2195  Page： 194-204  Publication year： 1994 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (3)： ALS ,  ARF ,  LASER