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J-GLOBAL ID：200902138949508734   Reference number：00A0394777

Electrochemical and Biological Treatment of Westewater from Manufacturing Process of a Photoresist Substrate for Semiconductors.

電解・生物法による半導体用フォトレジスト原料製造工程廃液の処理

Author (4)： MURAKAMI SADAAKI (宇部工高専) ,  TAKEUCHI MASAMI (宇部工高専) ,  MIURA MIKI (宇部工高専) ,  TANIGUCHI MINORU (宇部工高専)
Material： 環境技術  (Journal of Environmental Conservation Engineering)
Volume： 29  Issue： 3  Page： 207-214  Publication year： Mar. 20, 2000 
JST Material Number： S0796A  ISSN： 0388-9459  CODEN： KAGIDX  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： semiconductor ,...
Semi thesaurus term： 活性塩素 ,...

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JST classification (1)： Industrial wastewater treatment  (SC03080D)

Substance index (1)： 2,3,4,4′-Tetrahydroxybenzophenone

Reference (8)：

• 山岡亜夫. 感光性樹脂. 1988, 43
• BOBER, T. W. Ozonation of photographic processing wastes. Journal WPCF. 1975, 47, 8, 2114-2129
• NARKIS, N. Evaluation of ozone induced bio-degradability of wastewater treatment plant effluent. Water Research. 1980, 14, 929-939
• 宗宮功. 水中有機物のオゾン処理による反応生成物について. 衛生化学. 1987, 33, 6, 365-384
• 竹内正美. 写真廃液処理中の生物難分解性物質のオゾン処理. 環境工学研究論文集. 1991, 30, 175-186

Terms in the title (6)： 電解 ,  生物 ,  フォトレジスト ,  原料 ,  製造工程 ,  廃液