Art

J-GLOBAL ID：200902139478190107   Reference number：97A1003163

Fabrication of Microrelief Surfaces using a One-Step Lithography Process.

ワンステップリソグラフィー加工を用いたマイクロレリーフ表面の製造

Author (6)： REIMER K (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  HOFMANN U (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  JUERSS M (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  PILZ W (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  QUENZER H J (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  WAGNER B (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3226  Page： 2-10  Publication year： 1997 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (3)： リソグラフィー ,  マイクロ ,  レリーフ