Art

J-GLOBAL ID：200902141383718044   Reference number：98A0068728

Adsorption behavior of organic contaminations on the silicon wafer surface.

シリコンウエハーの表面清浄化技術の最近の動向 シリコンウエハー表面有機汚染物の吸着挙動

Author (1)： TAKAHAGI TAKAYUKI (広島大 工)
Material： 応用物理  (JSAP International)
Volume： 66  Issue： 12  Page： 1311-1315  Publication year： Dec. 1997 
JST Material Number： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon ,...

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JST classification (3)： Surface structure of semiconductors  (BK15030A) ,  Materials of solid-state devices  (NC03020K) ,  Study of adsorption by physical means  (CB12043P)

Reference (4)：

• 1) SEMATECH Technology Transfer # 95052812A-TR, May 31, 1995.
• 2) T. Takahagi, I. Nagai, A. Ishitani, H. Kuroda and Y. Nagasawa: J. Appl. Phys. 64, 3516 (1988).
• 3) 高萩隆行,新高分子実験学 7,高分子の構造 (3) 分子分光法,高分子学会編,共立出版
• 4) T. Takahagi, S. Shingubara, H. Sakaue, K. Hoshino and H. Yashima: Jpn. Appl. Phys. 35, L818 (1996).

Terms in the title (6)： シリコンウエハー ,  清浄化 ,  動向 ,  汚染物 ,  吸着 ,  挙動