Art

J-GLOBAL ID：200902143428971105   Reference number：93A0582817

Structures of Au and Ti thin films formed at the interface with Si by the plasma process.

プラズマプロセスによりSiとの界面に形成したAu,Ti薄膜の構造

Author (3)： KASHIWAGI K (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  SEKIGUCHI H (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  MURAYAMA Y (Toyo Univ., Saitama, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 228  Issue： 1/2  Page： 105-108  Publication year： May. 15, 1993 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： ion plating ,...

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (5)： プラズマプロセス ,  Si ,  界面 ,  Au ,  Ti薄膜