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J-GLOBAL ID：200902144218671601   Reference number：01A0650333

Effect of ion energy on photoresist etching in an inductively coupled, traveling wave driven, large area plasma source.

誘導結合,進行波駆動,大面積プラズマ源によるフォトレジストエッチングに及ぼすイオンエネルギーの効果

Author (2)： TAKECHI K (Univ. California, California) ,  LIEBERMAN M A (Univ. California, California)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 89  Issue： 10  Page： 5318-5321  Publication year： May. 15, 2001 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma etching ,...
Semi thesaurus term： pressure dependence ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Terms in the title (7)： 誘導結合 ,  進行波 ,  大面積 ,  プラズマ源 ,  フォトレジスト ,  エッチング ,  イオンエネルギー