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J-GLOBAL ID：200902145617065576   Reference number：94A0476244

Effect of organic compounds on Si for gate oxide reliability.

ウェーハ表面残留有機物の酸化膜の信頼性に及ぼす影響

Author (2)： SHIRAMIZU YOSHIMI (NEC) ,  KITAJIMA HIROSHI (NEC)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 41st  Issue： Pt 2  Page： 650  Publication year： Mar. 1994 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (4)： ウェーハ表面 ,  残留 ,  有機物 ,  酸化膜