Art

J-GLOBAL ID：200902145775852720   Reference number：98A0852192

Design of cycloolefin-maleic anhydride resist for ArF lithography.

ArFリソグラフィー用のシクロオレフィン-無水マレイン酸レジストの設計

Author (3)： JUNG J-C (Hyundai Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR) ,  BOK C-K (Hyundai Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR) ,  BAIK K-H (Hyundai Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3333  Issue： Pt.1  Page： 11-25  Publication year： 1998 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (6)： ARF ,  リソグラフィー ,  シクロオレフィン ,  無水マレイン酸 ,  レジスト ,  設計