Art

J-GLOBAL ID：200902146027500133   Reference number：02A0754341

High-density inductively coupled plasma chemical vapor deposition of silicon nitride for solar cell application.

太陽電池用窒化シリコンの高密度誘導結合プラズマ化学蒸着

Author (9)： PARM I O (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  KIM K (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  LIM D G (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  LEE J H (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  HEO J H (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  KIM J (Samsung SDI, Suwon, KOR) ,  KIM D S (Samsung SDI, Suwon, KOR) ,  LEE S H (Samsung SDI, Suwon, KOR) ,  YI J (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
Material： Solar Energy Materials and Solar Cells  (Sol Energy Mater Sol Cells)
Volume： 74  Issue： 1/4  Page： 97-105  Publication year： Oct. 2002 
JST Material Number： D0513C  ISSN： 0927-0248  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： solar cell ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0754341&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0513C") }}

JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (5)： 太陽電池 ,  窒化シリコン ,  高密度 ,  誘導結合プラズマ ,  化学蒸着