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J-GLOBAL ID：200902148217982420   Reference number：00A0413667

シリコン熱酸化膜の電子線照射損傷

Author (3)： MIN K (金材技研) ,  NAKAMURA MAKOTO (富士通) ,  YOSHIHARA KAZUHIRO (金材技研)
Material： Journal of Surface Analysis  (JSA)
Volume： 3  Issue： 1  Page： 39-44  Publication year： Jan. 1997 
JST Material Number： L3852A  ISSN： 1341-1756  CODEN： JSANFX  Document type： Article
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (4)： シリコン ,  熱酸化膜 ,  電子線照射 ,  損傷