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J-GLOBAL ID：200902149123462942   Reference number：96A0656415

Mass-spectrometric study of gas reaction of trimethylgallium-monomethylhydrazine in a low-pressure metalorganic chemical vapor deposition apparatus by in-situ gas sampling.

その場ガスサンプリングによる低圧有機金属化学蒸着装置におけるトリメチルガリウム-モニメチルヒドラジンのガス反応に関する質量分析研究

Author (5)： ISHII M (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  MINAMI T (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  MIYATA T (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KARAKI S (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  TAKATA S (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
Material： Institute of Physics Conference Series  (Inst Phys Conf Ser)
Issue： 142  Page： 899-902  Publication year： 1996 
JST Material Number： E0403B  ISSN： 0305-2346  CODEN： IPHSAC  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： gallium nitride ,...
Semi thesaurus term： methylamine

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (6)： サンプリング ,  低圧 ,  有機金属化学蒸着 ,  トリメチルガリウム ,  質量分析 ,  研究