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J-GLOBAL ID：200902151927110784   Reference number：95A0253704

Bond-structure changes of liquid phase deposited oxide (SiO_2-xF_x) on N₂ annealing.

N₂アニーリングによる液相堆積した酸化物(SiO_2-xF_xの結合構造の変化

Author (4)： YEH C-F (National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN) ,  CHEN C-L (National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN) ,  LUR W (United Microelectronics Corp., Hsinchu, TWN) ,  YEN P-W (United Microelectronics Corp., Hsinchu, TWN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 66  Issue： 8  Page： 938-940  Publication year： Feb. 20, 1995 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon oxide ,...

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JST classification (1)： Crystal growth of oxides  (BK13050I)

Terms in the title (5)： N2 ,  アニーリング ,  液相 ,  堆積 ,  酸化物