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J-GLOBAL ID：200902153762977802   Reference number：97A0291256

Beam Implantation: A New Method for Preparing Cage Molecules Containing Atoms at High Incorporation Levels.

ビームによるイオン注入法 高い組入れ水準の原子を保有するかご形分子の新合成法

Author (3)： SHIMSHI R (Yale Chemistry Dep., Connecticut) ,  CROSS R J (Yale Chemistry Dep., Connecticut) ,  SAUNDERS M (Yale Chemistry Dep., Connecticut)
Material： Journal of the American Chemical Society  (J Am Chem Soc)
Volume： 119  Issue： 5  Page： 1163-1164  Publication year： Feb. 05, 1997 
JST Material Number： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： ion implantation ,...
Semi thesaurus term： かご型分子

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JST classification (2)： Interactions with ions  (BK16070Z) ,  Molecular compounds  (CE02000C)

Terms in the title (9)： ビーム ,  イオン注入法 ,  組入れ ,  水準 ,  原子 ,  保有 ,  かご ,  分子 ,  合成法