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J-GLOBAL ID：200902154114312443   Reference number：01A0350768

X-ray diffraction study of undercooled molten silicon.

過冷却溶融シリコンのX線回折研究

Author (9)： KIMURA H (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  WATANABE M (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  IZUMI K (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  HIBIYA T (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  HOLLAND-MORITZ D (DLR, Koeln, DEU) ,  SCHENK T (DLR, Koeln, DEU) ,  EGRY I (DLR, Koeln, DEU) ,  FUNAKOSHI K (Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., Sayo, JPN) ,  HANFLAND M (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 78  Issue： 5  Page： 604-606  Publication year： Jan. 29, 2001 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silicon ,...

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JST classification (1)： Structure of liquids in general  (BK02010E)

Terms in the title (4)： 過冷却 ,  溶融シリコン ,  X線回折 ,  研究