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J-GLOBAL ID：200902156066459740   Reference number：02A0276796

Photosensitive Polyarylates Based on Reaction Development Patterning.

反応現像パターニングに基づいた感光性ポリアリレート

Author (5)： OYAMA T (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  KITAMURA A (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  FUKUSHIMA T (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  IIJIMA T (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  TOMOI M (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
Material： Macromolecular Rapid Communications  (Macromol Rapid Commun)
Volume： 23  Issue： 2  Page： 104-108  Publication year： Jan. 31, 2002 
JST Material Number： D0314B  ISSN： 1022-1336  CODEN： MRCOE3  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Germany, Federal Republic of (DEU)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： Water ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Decomposition,deterioration,degradation of polymers  (CG03010A)

Substance index (3)： Ethanolamine ,  N-Methylpyrrolidone ,  2-Diazo-5-(p-tolyloxysulfonyl)-1(2H)-naphthalenone

Terms in the title (4)： 現像 ,  パターニング ,  感光性 ,  ポリアリレート