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J-GLOBAL ID：200902156478422786   Reference number：99A0955763

Hydrogen-terminated Si Surfaces. Role of Hydrogen Atoms in the Initial Oxidation Processes of H-Terminated Si(100) Surfaces.

水素終端Si表面 水素終端シリコン表面の酸化と水素の役割

Author (3)： ZAIMA SHIGEAKI (名古屋大 先端技術共同研セ) ,  IKEDA HIROYA (名古屋大 大学院) ,  YASUDA YUKIO (名古屋大 大学院)
Material： 表面科学  (JSSSJ)
Volume： 20  Issue： 10  Page： 703-710  Publication year： Oct. 10, 1999 
JST Material Number： F0940B  ISSN： 0388-5321  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon ,...

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JST classification (2)： Study of adsorption by physical means  (CB12043P) ,  Other noncatalytic reactions  (CB06070U)

Reference (29)：

• HIRASHITA, N. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 451
• GATES, S. M. J. Chem. Phys. 1990, 92, 3144
• YASUDA, Y. J. Appl. Phys. 1993, 73, 2288
• ZAIMA, S. J. Cryst. Growth. 1995, 150, 944
• COPEL, M. Phys. Rev. Lett. 1989, 63, 632

Terms in the title (6)： 水素終端 ,  Si ,  シリコン ,  酸化 ,  水素 ,  役割