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J-GLOBAL ID：200902156986241045   Reference number：02A0858852

水溶液中レーザーアブレーションによる酸化物ナノ構造体の調製

Author (4)： SASAKI TAKESHI (産業技術総合研 界面ナノアーキテクトニクス研セ) ,  LIANG C (産業技術総合研 界面ナノアーキテクトニクス研セ) ,  SHIMIZU YOSHIKI (産業技術総合研 界面ナノアーキテクトニクス研セ) ,  KOSHIZAKI NAOTO (産業技術総合研 界面ナノアーキテクトニクス研セ)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 63rd  Issue： 3  Page： 974  Publication year： Sep. 24, 2002 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *laser ablation ,...

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JST classification (2)： Laser irradiation effects and damages  (BK16040S) ,  Colloid chemistry in general  (CB11010C)

Substance index (1)： Dodecyl sodium sulfate

Terms in the title (5)： 水溶液 ,  レーザーアブレーション ,  酸化物 ,  ナノ構造体 ,  調製