Art

J-GLOBAL ID：200902159538222845   Reference number：01A0758400

Rejuvenation of 248nm Resist Backbones for 157nm Lithography.

157nmリソグラフィーのための248nmレジスト用主鎖の利用

Author (9)： BAE Y C (Cornell Univ., NY, USA) ,  DOUKI K (Cornell Univ., NY, USA) ,  YU T (Cornell Univ., NY, USA) ,  DAI J (Cornell Univ., NY, USA) ,  SCHMALJOHANN D (Cornell Univ., NY, USA) ,  CONLEY W (International SEMATECH, TX, USA) ,  MILLER D (International SEMATECH, TX, USA) ,  BALASUBRAMANIAN R (Intel Corp., CA, USA) ,  OBER C K (Cornell Univ., NY, USA)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 14  Issue： 4  Page： 613-620  Publication year： 2001 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *fluorine-containing polymer ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (3)： Acrylic acid 1-(trifluoromethyl)-1-[4-[1-(trifluoromethyl)-1-hydroxy-2,2,2-trifluoroethyl]cyclohexyl]ethyl ester ,  Acrylic acid 1-(trifluoromethyl)-1-[4-[1-(trifluoromethyl)-1-(methoxymethoxy)-2,2,2-trifluoroethyl]cyclohexyl]ethyl ester ,  2-(Ethoxymethoxy)-2-(4-vinylphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane

Reference (9)：

• 1). Kunz, R. R.; Bloomstein, T. M.; Hardy, D. E.; Goodman, R. B.; Downs, D. K.; Curtin, J. E. J. Vac. Sci. Technol. B 1999, 3267.
• 2). Przybilla, K. J.; RÖschert, H.; Pawlowski, G. Adv. Mater. 1992, 4, 239; Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1992, 1672, 500.
• 3). Ito, H.; Seehof, N.; Sato, R. Polym. Mater. Sci. Eng. 1997, 77, 449; Ito, H.; Seehof, N.; Sato, R.; Nakayama, T.; Ueda, M. ACS Symp. Ser. 1998, 706, 449.
• 4). Schmaljohann, D.; Bae, Y. C.; Weibel, G. L.; Hamad, A. H.; Ober, C. K. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2000, 3999, 330.
• 5). Bae, Y. C., Dai, J., Weibel, G. L., Ober, C. K. Polym. Prepr. 2000, 41(2), 1586.

Terms in the title (3)： リソグラフィー ,  レジスト ,  主鎖