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J-GLOBAL ID：200902159619855044   Reference number：98A0821873

Electrochemical deposition of metals onto silicon.

シリコンへの金属の電気化学的堆積

Author (4)： OSKAM G (Johns Hopkins Univ., MD, USA) ,  LONG J G (Johns Hopkins Univ., MD, USA) ,  NATARAJAN A (Johns Hopkins Univ., MD, USA) ,  SEARSON P C (Johns Hopkins Univ., MD, USA)
Material： Journal of Physics. D. Applied Physics  (J Phys D)
Volume： 31  Issue： 16  Page： 1927-1949  Publication year： Aug. 21, 1998 
JST Material Number： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *electrodeposition ,...

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JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (3)： シリコン ,  電気化学 ,  堆積