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J-GLOBAL ID：200902159840552692   Reference number：02A0301381

次世代実装技術に対応する微細配線形成

Author (4)：
KOYAMA SHOICHI

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(新光電気工業 基盤技研)

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HORIKAWA YASUYOSHI

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IIJIMA TAKAHIRO

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WAKABAYASHI SHIN'ICHI

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(新光電気工業 基盤技研)

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Material：
マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集  (エレクトロニクス実装学会秋季大会論文集)

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Volume： 11th  Page： 135-138  Publication year： Oct. 18, 2001 
JST Material Number： X0060A  ISSN： 2434-396X  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)
Thesaurus term：
Thesaurus term/Semi thesaurus term
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*circuit pattern generation

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Semi thesaurus term：
Thesaurus term/Semi thesaurus term
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セミアディティブ法

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JST classification (1)：
JST classification
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Materials of solid-state devices 
(NC03020K)

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次世代

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実装技術

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微細配線

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