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J-GLOBAL ID：200902161023406735   Reference number：02A0466108

Ceシリサイドの熱酸化によるCeシリケート薄膜の作製

Author (3)： KASHIWAKURA TAKAYUKI (宇都宮大 工) ,  YOSHIDA TADAHIRO (宇都宮大 工) ,  NAKAI SHUN'ICHI (宇都宮大 工)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 49th  Issue： 2  Page： 624  Publication year： Mar. 27, 2002 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： dielectric thin film ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (6)： Ce ,  シリサイド ,  熱酸化 ,  シリケート ,  薄膜 ,  作製