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J-GLOBAL ID：200902161412588873   Reference number：01A0872955

Characterization of Cu surface cleaning by hydrogen plasma.

水素プラズマによるCu表面洗浄の評価

Author (7)： BAKLANOV M R (IMEC, Leuven, BEL) ,  SHAMIRYAN D G (IMEC, Leuven, BEL) ,  TOEKEI Z (IMEC, Leuven, BEL) ,  BEYER G P (IMEC, Leuven, BEL) ,  CONARD T (IMEC, Leuven, BEL) ,  VANHAELEMEERSCH S (IMEC, Leuven, BEL) ,  MAEX K (IMEC, Leuven, BEL)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena)
Volume： 19  Issue： 4  Page： 1201-1211  Publication year： Jul. 2001 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Hydrogen ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Terms in the title (4)： 水素プラズマ ,  Cu ,  表面洗浄 ,  評価