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J-GLOBAL ID：200902161825953561   Reference number：00A0908576

Polymers for 157nm Photoresist Applications: A Progress Report.

Author (9)： PATTERSON K (Univ. Texas at Austin, TX) ,  YAMACHIKA M (Univ. Texas at Austin, TX) ,  HUNG R (Univ. Texas at Austin, TX) ,  BRODSKY C (Univ. Texas at Austin, TX) ,  YAMADA S (Univ. Texas at Austin, TX) ,  SOMERVELL M (Univ. Texas at Austin, TX) ,  HALL D (Univ. Texas at Austin, TX) ,  CONLEY W (International SEMATECH, TX) ,  WILLSON C G (Univ. Texas at Austin, TX)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3999  Issue： Pt.1  Page： 365-374  Publication year： 2000 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (1)： PROGRESS