Art

J-GLOBAL ID：200902162767857316   Reference number：00A0903391

Etching Characteristics of α-Type Ta Film Using Cl₂ Electron Cyclotron Resonance (ECR) Plasma.

Cl₂電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマを利用したα型Ta膜のエッチング特性

Author (5)： TAKAHASHI C (NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN) ,  TSUCHIZAWA T (NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN) ,  NISHIMURA H (NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN) ,  ONO T (NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN) ,  ODA M (NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 39  Issue： 9A/B  Page： L945-L947  Publication year： Sep. 15, 2000 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma etching ,...

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JST classification (3)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Reference (12)：

• ODA, M. J.Vac.Sci & Technol. 1999, B17, 3402
• ODA, M. J.Vac.Sci.& Technol. 1993, B11, 37
• NISHIMURA, H. J.Vac.Sci.& Technol. 1997, A15, 707
• WESTWOOD, W. D. Tantalum Thin Films. 1975, 76
• TSUCHIZAWA, T. Abstr.Book, Int.Conf.Micro-and Nano-Enngineering 99. 1999, 33

Terms in the title (5)： 電子サイクロトロン共鳴 ,  プラズマ ,  型 ,  Ta膜 ,  エッチング特性