Art

J-GLOBAL ID：200902163068086742   Reference number：01A0747299

Photocrosslinking System Based on Poly(vinyl phenol) and Fluorene Derivatives with Epoxy Unit Using Photoacid and Photobase Generators.

光酸及び光塩基発生剤を用いたポリ(ビニルフェノール)とエポキシ単位を持つフルオレン誘導体に基づいた光橋かけ系

Author (8)： OKAMURA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  HARADA C (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  MORISHITA S (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIKI T (Osaka Gas Co., Osaka, JPN) ,  KAWASAKI S (Osaka Gas Co., Osaka, JPN) ,  YAMADA M (Osaka Gas Co., Osaka, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 14  Issue： 2  Page： 159-162  Publication year： 2001 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： photobase generator ,...
Semi thesaurus term： *photocrosslinking ,...

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JST classification (2)： Crosslinking  (YH04100E) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (4)： Triphenylsulfonium ,  1-(2-Naphthyl)ethanone O-(phenylacetyl)oxime ,  9,9-Bis(4-glycidyloxyphenyl)-9H-fluorene ,  9,9-Bis[4-[2-(glycidyloxy)ethoxy]phenyl]-9H-fluorene

Reference (5)：

• 1). J. P. Fouassier, J. F. Rabeck, Radiation Curing in Polymer Science and Technology, Elsevier Applied Science, New York (1993).
• 2). M. Shirai, M. Tsunooka, Prog. Polym. Sci., 21 (1995) 1.
• 3). M. Shirai, M. Tsunooka, Bull. Chem. Soc. Jpn., 71 (1998) 2483.
• 4). K. Ito, Y. Shigeru, Y. Kawata, K. Ito, M. Tsunooka, Can. J. Chem., 73 (1995) 1924.
• 5). D. Gagnebien, P. J. Madec, E. Marechal, Eur. Polym. J., 21 (1985) 273.

Terms in the title (4)： 酸 ,  光塩基発生剤 ,  フルオレン誘導体 ,  光橋かけ