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J-GLOBAL ID：200902163625327596   Reference number：94A0419418

Fabrication of Si nanostructures with an atomic force microscope.

原子間力顕微鏡を用いたSiナノ構造の作製

Author (2)： SNOW E S (Naval Research Lab., Washington, D.C.) ,  CAMPBELL P M (Naval Research Lab., Washington, D.C.)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 64  Issue： 15  Page： 1932-1934  Publication year： Apr. 11, 1994 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...
Semi thesaurus term： AFMリソグラフィー

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JST classification (3)： Techniques for samples  (BA02070O) ,  Metal-insulator-semiconductor structures  (BM03085X) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： 原子間力顕微鏡 ,  Si ,  ナノ構造 ,  作製