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J-GLOBAL ID：200902164106696475   Reference number：95A0379990

Pd induced lateral crystallization of amorphous Si thin films.

Si非晶質薄膜のPd誘起横方向結晶化

Author (3)： LEE S-W (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  JEON Y-C (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  JOO S-K (Seoul National Univ., Seoul, KOR)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 66  Issue： 13  Page： 1671-1673  Publication year： Mar. 27, 1995 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...

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JST classification (1)： Structure of amorphous semiconductors  (BK04030O)

Terms in the title (6)： Si ,  非晶質薄膜 ,  PD ,  誘起 ,  横方向 ,  結晶化