Art

J-GLOBAL ID：200902164201555544   Reference number：02A0550161

Modeling of the Electron Motion in a Capacitively Coupled Magnetic Null Plasma.

低圧部分イオン化プラズマ及び装置 容量結合磁気ヌルプラズマ中の電子の運動のモデリング

Author (6)： SUNG Y-M (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  OKRAKU-YIRENKYI Y (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  OTSUBO M (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  HONDA C (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  UCHINO K (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  MURAOKA K (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
Material： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Trans Plasma Sci)
Volume： 30  Issue： 1,Pt.1  Page： 142-143  Publication year： Feb. 2002 
JST Material Number： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma source ,...
Semi thesaurus term： plasma treatment

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JST classification (1)： Plasma devices  (BJ02082I)

Terms in the title (8)： 低圧 ,  イオン化 ,  プラズマ ,  容量結合 ,  磁気 ,  電子 ,  運動 ,  モデリング