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J-GLOBAL ID：200902169099937471   Reference number：96A0878952

Optimization method of proximity effect correction parameters on photomasks.

マスク描画における近接効果補正パラメータの裕度と最適化手法

Author (5)： ITO MASAMITSU (東芝) ,  MAGOSHI SHUNKO (東芝) ,  NAKASUGI TETSUO (東芝) ,  KAMIKUBO TAKASHI (東芝) ,  ABE TAKAYUKI (東芝)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 57th  Issue： 2  Page： 544  Publication year： Sep. 1996 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (6)： マスク ,  描画 ,  近接効果補正 ,  パラメータ ,  裕度 ,  最適化手法