Art

J-GLOBAL ID：200902171267305170   Reference number：97A0194305

One step electron-beam lithography for multipurpose diffractive optical elements with 200nm resolution.

200nm分解能を持つ多目的の回折光学素子のためのワンステップ電子ビームリソグラフィー

Author (7)： DI FABRIZIO E (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  GRELLA L (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  BACIOCCHI M (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  GENTILI M (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  PESCHIAROLI D (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  MASTROGIACOMO L (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA) ,  MAGGIORA R (Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena)
Volume： 14  Issue： 6  Page： 3855-3859  Publication year： Nov. 1996 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： electron beam lithography ,...

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JST classification (1)： Optical devices in general  (BD06010L)

Terms in the title (4)： 分解能 ,  多目的 ,  回折光学素子 ,  電子ビームリソグラフィー