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J-GLOBAL ID：200902171687332823   Reference number：01A0476292

Influence of Dry Etching using Argon on Structural and Electrical Properties of Crystalline and Non-Crystalline SrBi₂Ta₂O₉ Thin Films.

結晶性及び非結晶性SrBi₂Ta₂O₉薄膜の構造及び電気特性に対するアルゴンを用いたドライエッチングの効果

Author (8)： HARTNER W (Siemens AG, Munich, DEU) ,  SCHINDLER G (Siemens AG, Munich, DEU) ,  WEINRICH V (Siemens AG, Munich, DEU) ,  AHLSTEDT M (Siemens AG, Munich, DEU) ,  SCHROEDER H (Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU) ,  WASER R (Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU) ,  DEHM C (Siemens AG, Munich, DEU) ,  MAZURE C (Siemens AG, Munich, DEU)
Material： Integrated Ferroelectrics  (Integr Ferroelectr)
Volume： 27  Issue： 1/4  Page： 213-225  Publication year： Nov. 1999 
JST Material Number： W0539A  ISSN： 1058-4587  CODEN： IFEREU  Document type： Article
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (6)： 結晶性 ,  非結晶性 ,  薄膜 ,  電気特性 ,  アルゴン ,  ドライエッチング