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J-GLOBAL ID：200902176225081924   Reference number：00A0352056

Siマイクロマシニング技術による微小領域計測用ツインプローブの試作

Author (4)： KAKUSHIMA KUNIYUKI (東大 生産技研) ,  MITA MAKOTO (東大 生産技研) ,  HARAGUCHI GEN (香川大) ,  FUJITA HIROYUKI (東大 生産技研)
Material： 電気学会マイクロマシン研究会資料  (電気学会研究会資料)
Volume： MM-00  Issue： 1-8  Page： 41-44  Publication year： Feb. 28, 2000 
JST Material Number： L2898A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： silicon ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (2)：

• HASHIGUCHI, G. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, L1649-L1650
• HASHIGUCHI, G. Fabrication of Facing Nano-wire Probes for In-Situ Observation of Tunneling Phenomena with Ultra-High Resolution TEM. Transducers '99, Sendai, Japan, June. 1999, 862

Terms in the title (6)： Si ,  マイクロマシニング技術 ,  微小領域 ,  計測 ,  プローブ ,  試作