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J-GLOBAL ID：200902176817641965   Reference number：94A0624359

Nanometre electrode fabrication technology using anodic oxidation resist films and applications to 10GHz surface acoustic wave devices.

陽極酸化レジスト膜を用いたナノメータ電極の製造法と10GHz弾性表面波素子への応用

Author (5)： YAMANOUCHI K (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MEGURO T (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  WAGATSUMA Y (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  ODAGAWA H (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YAMAMOTO K (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
Material： Electronics Letters  (Electron Lett)
Volume： 30  Issue： 12  Page： 1010-1011  Publication year： Jun. 09, 1994 
JST Material Number： A0887A  ISSN： 0013-5194  CODEN： ELLEAK  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： nanometer process ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Surface acoustic wave devices  (NC03120T)

Terms in the title (6)： 陽極酸化 ,  レジスト膜 ,  ナノメータ ,  製造法 ,  弾性表面波素子 ,  応用