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J-GLOBAL ID：200902179175153600   Reference number：01A0654175

Formation and Properties of Cr-N Films by DC Reactive Sputtering.

反応性スパッタリング法によるCr-N膜の作製とその特性

Author (3)： IDE YUKIO (山口県産技セ) ,  ERA HIDENORI (九州工大 工) ,  KISHITAKE KATSUHIKO (九州工大 工)
Material： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
Volume： 65  Issue： 6  Page： 502-508  Publication year： Jun. 20, 2001 
JST Material Number： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *reactive sputtering ,...

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JST classification (1)： Ceramic coating to metallic materials  (YC02050V)

Reference (17)：

• DONG-DONG, W. Hyomen Gijutsu. 1989, 40, 96-97
• KAWANA, A. Shigen-to-Sozai. 1992, 108, 868-872
• TAGUCHI, M. Mater. Trans., JIM. 1994, 35, 356-362
• OHTANI, S. Hyomen Gijutsu. 1992, 43, 1168-1171
• CHIBA, Y. J. Mater. Res. 1993, 8, 1109-1115

Terms in the title (3)： 反応性スパッタリング ,  Cr ,  作製