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J-GLOBAL ID：200902180101145387   Reference number：99A0795807

Design of acid labile protecting groups in chemically amplified resist.

化学増幅型レジストにおける酸に不安定な保護基の設計

Author (9)： FUJITA J (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN) ,  SASAKI K (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN) ,  KAMEYAMA Y (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN) ,  CHIKA Y (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN) ,  KASHIWAGI T (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN) ,  NIINOMI T (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN) ,  TANAKA Y (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN) ,  TARUTANI S (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN) ,  OCHIAI T (Mitsubishi Chemical Corp., Yokohama, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3678  Issue： Pt.1  Page： 608-616  Publication year： 1999 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (4)： 化学増幅型レジスト ,  酸 ,  保護基 ,  設計