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J-GLOBAL ID：200902181266459773   Reference number：02A0439924

プラズマアシスト光CVD法を用いた絶縁膜堆積

Author (6)： HORII NAOHIRO (福井工高専) ,  INOUE AKIHIRO (福井工高専) ,  SAKAI RYOJI (福井工高専) ,  NISHIBATA HIROKI (福井工高専) ,  SHIMADA SHO (福井工高専) ,  OKIMURA KUNIO (東海大 工)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 49th  Issue： 1  Page： 165  Publication year： Mar. 27, 2002 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *photo-CVD ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Substance index (1)： Tetraethoxysilane

Terms in the title (5)： プラズマ ,  アシスト ,  光CVD法 ,  絶縁膜 ,  堆積