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J-GLOBAL ID：200902182482108477   Reference number：02A0014920

Metal Gate Work Function Adjustment for Future CMOS Technology.

将来のCMOS技術のためのメタルゲートの仕事関数調整

Author (5)： LU Q (Univ. California, CA, USA) ,  LIN R (Univ. California, CA, USA) ,  RANADE P (Univ. California, CA, USA) ,  KING T-J (Univ. California, CA, USA) ,  HU C (Univ. California, CA, USA)
Material： Digest of Technical Papers. Symposium on VLSI Technology  (Symposium on VLSI Technology)
Volume： 2001  Page： 45-46  Publication year： 2001 
JST Material Number： A0035B  ISSN： 0743-1562  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *CMOS structure ,...
Semi thesaurus term： メタルゲート ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Semiconductor integrated circuit  (NC03162T)

Terms in the title (3)： CMOS技術 ,  メタルゲート ,  仕事関数