Art

J-GLOBAL ID：200902182594937174   Reference number：00A1021282

Status of ArF lithography for the 130nm technology node.

Author (9)： RONSE K (IMEC, Leuven, BEL) ,  VANDENBERGHE G (IMEC, Leuven, BEL) ,  JAENEN P (IMEC, Leuven, BEL) ,  MAENHOUDT M (IMEC, Leuven, BEL) ,  POLLENTIER I (IMEC, Leuven, BEL) ,  VLEEMING B (ASML, Veldhoven, NLD) ,  HESKAMP B (ASML, Veldhoven, NLD) ,  FINDERS J (ASML, Veldhoven, NLD) ,  NIROOMAND A (Micron Technol., ID, USA)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 4000  Issue： Pt.1  Page： 410-422  Publication year： 2000 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (1)： ARF