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J-GLOBAL ID：200902183527527707   Reference number：99A0694434

Effect of partial pressure on the internal stress and the crystallographic structure of r.f. reactive sputtered Ti-N films.

rf反応性スパッタ蒸着したTi-N膜の内部応力と結晶学的構造に及ぼす分圧の効果

Author (4)： INOUE S (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  OHBA T (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  TAKATA H (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  KOTERAZAWA K (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 343/344  Page： 230-233  Publication year： Apr. 1999 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *titanium compound ,...
Semi thesaurus term： titanium nitride

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Mechanical properties of solids in general  (BL01021C)

Terms in the title (7)： RF ,  反応性 ,  スパッタ蒸着 ,  Ti ,  内部応力 ,  結晶学 ,  分圧