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J-GLOBAL ID：200902184037488653   Reference number：00A0514660

Turbostratic boron carbonitride films produced by bias-assisted hot filament chemical vapor deposition.

バイアス支援熱フィラメント化学蒸着法によって作製した乱流層的炭化窒化ほう素薄膜

Author (7)： YU J (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  WANG E G (Inst. Physics, Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN) ,  AHN J (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  YOON S F (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  ZHANG Q (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  CUI J (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  YU M B (Nanyang Technological Univ., Singapore)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 87  Issue： 8  Page： 4022-4025  Publication year： Apr. 15, 2000 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *boron compound ,...
Semi thesaurus term： 炭化窒化ほう素

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (8)： バイアス ,  支援 ,  熱フィラメント化学蒸着 ,  作製 ,  乱流 ,  炭化 ,  窒化ほう素 ,  薄膜