Art

J-GLOBAL ID：200902189542197762   Reference number：97A0850939

Acid amplification of chemically amplified resists for 193nm lithography.

193nmリソグラフィーのための化学的増幅型レジストの酸性増幅

Author (7)： OHFUJI T (ASET, Kanagawa, JPN) ,  TAKAHASHI M (ASET, Kanagawa, JPN) ,  KUHARA K (ASET, Kanagawa, JPN) ,  OGAWA T (ASET, Kanagawa, JPN) ,  OHTSUKA H (ASET, Kanagawa, JPN) ,  SASAGO M (ASET, Kanagawa, JPN) ,  ICHIMURA K (Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3049  Page： 76-82  Publication year： 1997 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (5)： リソグラフィー ,  化学 ,  増幅 ,  レジスト ,  酸性