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J-GLOBAL ID：200902190276538395   Reference number：98A0843079

High performance profiles and characteristics of chemically amplified resist.

化学増幅レジストの高性能プロファイル、及び、特性

Author (8)： MOCHIZUKI H (Mitsubishi Chemical Co. Yokohama Res. Center, Yokohama, JPN) ,  TOMIYASU H (Mitsubishi Chemical Co. Yokohama Res. Center, Yokohama, JPN) ,  KAMEYAMA Y (Mitsubishi Chemical Co. Yokohama Res. Center, Yokohama, JPN) ,  TSUKAMOTO M (Mitsubishi Chemical Co. Yokohama Res. Center, Yokohama, JPN) ,  NIINOMI T (Mitsubishi Chemical Co. Yokohama Res. Center, Yokohama, JPN) ,  TANAKA Y (Mitsubishi Chemical Co. Yokohama Res. Center, Yokohama, JPN) ,  FUJITA J (Mitsubishi Chemical Co. Yokohama Res. Center, Yokohama, JPN) ,  OCHIAI T (Mitsubishi Chemical Co. Yokohama Res. Center, Yokohama, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3333  Issue： Pt.2  Page： 953-959  Publication year： 1998 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (3)： 化学増幅レジスト ,  高性能 ,  プロファイル