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J-GLOBAL ID：200902192329378142   Reference number：02A0675165

Influence of Initial Layers on Crystallinity of NiO(111) Epitaxial Film Grown at Room Temperature by Pulsed Laser Deposition.

パルスレーザ蒸着を用いた室温でのNiO(111)エピタキシャル膜成長による基底層の影響と結晶性

Author (4)： KAKEHI Y (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN) ,  NAKAO S (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN) ,  SATOH K (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN) ,  KUSAKA T (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
Material： Sensors and Materials  (Sens Mater)
Volume： 14  Issue： 5  Page： 281-291  Publication year： 2002 
JST Material Number： L0338A  ISSN： 0914-4935  CODEN： SENMER  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *nickel oxide ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (6)： パルスレーザ蒸着 ,  室温 ,  エピタキシャル膜 ,  成長 ,  基底層 ,  結晶性