Art

J-GLOBAL ID：200902192412392424   Reference number：94A0124152

Acid-catalyzed single-layer resists for ArF lithography.

Author (4)： KUNZ R R (Massachusetts Inst. Technology, MA) ,  ALLEN R D (IBM Research Division, CA) ,  HINSBERG W D (IBM Research Division, CA) ,  WALLRAFF G M (IBM Research Division, CA)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 1925  Page： 167-175  Publication year： 1993 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (1)： ARF