Art

J-GLOBAL ID：200902193420141283   Reference number：99A0245343

Optimization for thermal oxidation of silicon.

酸化拡散炉による酸化膜成膜条件の最適化

Author (3)： TOIYAMA KIYOKAZU (広島県西部工技セ) ,  YAMASHITA HIROYUKI (広島県西部工技セ) ,  NAWACHI NORIO (広島県西部工技セ)
Material： 品質工学  (Journal of Robust Quality Engineering Society)
Volume： 7  Issue： 1  Page： 43-49  Publication year： Feb. 1999 
JST Material Number： L3004A  ISSN： 2189-633X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *oxide film ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0245343&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L3004A") }}

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Statistical quality control  (KB04030W)

Terms in the title (5)： 酸化 ,  拡散 ,  酸化膜 ,  成膜条件 ,  最適化