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J-GLOBAL ID：200902193926604796   Reference number：01A0676911

Possibility of Gettering in Silicon Wafer by Using a Cavitating Jet.

キャビテーション噴流を用いたシリコンウェーハに対するゲッタリングの可能性(原標題は英語)
Author (3)：
KUMANO HIROYUKI

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(東北大 大学院工学研究科)

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SOYAMA HITOSHI

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SAKA MASUMI

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(東北大 大学院工学研究科)

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Material：
噴流工学  (Journal of Jet Flow Engineering)

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Volume： 18  Issue： 2  Page： 4-9  Publication year： Jun. 2001 
JST Material Number： L1111A  ISSN： 1341-3279  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)
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cavitation

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JST classification (1)：
JST classification
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Materials of solid-state devices 
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